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Regulatory Filings • Mar 2, 2021

위드텍/기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)/(2021.03.02)기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)(웨이퍼 표면의 오염물 샘플링 노즐 및 샘플링 방법)

기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)

1. 특허명칭	[국내특허]웨이퍼 표면의 오염물 샘플링 노즐 및 샘플링 방법
2. 특허 주요내용	본 발명은 웨이퍼 표면의 오염물질 모니터링은 반도체 디바이스 생산공정에 있어 매우 중요한 과제로 대두되고 있고 제품의 불량발생 원인 파악의 일환으로 웨이퍼 표면의 오염물 샘플링을 위한 장치와 방법에 관한 것이다.
3. 특허권자	(주)위드텍
4. 특허취득일자	2021-03-02
5. 특허 활용계획	당사 웨이퍼 표면의 오염물질 모니터링 자동화 설비에 활용.
6. 확인일자	2021-03-02
7. 기타 투자판단에 참고할 사항	- 본 특허는 국내 특허임. - 특허출원번호 : 10-2020-0128679 - 확인일자는 특허수수료 납입일 기준입니다.