AI assistant
Kingsemi Co.,Ltd. — Capital/Financing Update 2021
Dec 15, 2021
58091_rns_2021-12-15_f098d444-cee8-4e00-bc16-e7a49511f27f.PDF
Capital/Financing Update
Open in viewerOpens in your device viewer
上海证券交易所文件
上证科审 (再融资) 〔 2021 〕 116 号
───────────────
关于沈阳芯源微电子设备股份有限公司向 特定对象发行股票申请文件的 第二轮审核问询函
沈阳芯源微电子设备股份有限公司、中国国际金融股份有限公司: 根据《证券法》《科创板上市公司证券发行注册管理办法(试 行)》《上海证券交易所科创板上市公司证券发行上市审核规则》 等有关法律、法规及本所有关规定等,本所审核机构对沈阳芯源 微电子设备股份有限公司(以下简称上市公司或公司)向特定对 象发行股票申请文件进行了审核,并形成了第二轮问询问题。
1. 关于募投项目收入测算
1
首轮问询回复未说明上海临港研发及产业化项目和高端晶 圆处理设备产业化项目(二期)两个募投项目预计销量的测算过 程及具体情况;未说明两个项目成本、费用测算的依据及过程。
请发行人说明:(1)量化分析两个募投项目预计销量的测算 过程及具体情况;(2)相关成本、费用的测算依据及测算过程。 请申报会计师核查并发表明确意见。
2. 关于募投项目实施能力
根据首轮问询回复:(1)与 IPO 募投高端晶圆处理设备产业 化项目相比,本次募投产品在技术规格和工艺等级上均有所提升; (2)高端晶圆处理设备产业化项目(二期)生产的 I-line 光刻工 艺涂胶显影机可匹配的光刻机型号更加广泛,设备产能更高;前 道 Barc(抗反射层)涂胶机设备产能提升,并可实现高温烘烤; 新增 KrF 光刻工艺涂胶显影机工艺线宽可达到 0.13-0.4μm,工艺 等级高于 I-line 光刻工艺涂胶显影机;(3)上海临港研发及产业 化项目生产的前道 ArF 光刻工艺涂胶显影机用于涂覆 ArF 光刻 胶,制程节点可覆盖 55nm 以上成熟工艺;浸没式光刻工艺涂胶 显影机用于涂覆浸没式光刻胶,制程节点可覆盖 28nm 及以上成 熟工艺。
请发行人说明:(1)本次募投涉及技术规格和工艺等级升级 的产品类型,与公司现有产品的技术提升对比情况;(2)公司就 实施本次募投的人员、技术储备安排及进展,是否具备实现前述 技术规格和工艺等级升级的能力,及依据。
2
请公司区分“披露”及“说明”事项,披露内容除申请豁免 外,应增加至募集说明书中,说明内容是问询回复的内容,不用 增加在募集说明书中;涉及修改募集说明书等申请文件的,以楷 体加粗标明更新处,一并提交修改说明及差异对照表;请保荐机 构对公司的回复内容逐项进行认真核查把关,并在公司回复之后 写明“对本回复材料中的公司回复,本机构均已进行核查,确认 并保证其真实、完整、准确”的总体意见。
==> picture [181 x 122] intentionally omitted <==
----- Start of picture text -----
上海证券交易所
二 〇 二一年十二月十五日
----- End of picture text -----
主题词:科创板 再融资 问询函 上海证券交易所科创板上市审核中心 2021 年 12 月 15 日印发
3