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Kingsemi Co.,Ltd. Capital/Financing Update 2021

Oct 7, 2021

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Capital/Financing Update

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上海证券交易所文件

上证科审 (再融资) 〔 202175

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关于沈阳芯源微电子设备股份有限公司向特 定对象发行股票申请文件的审核问询函

沈阳芯源微电子设备股份有限公司、中国国际金融股份有限公司: 根据《证券法》《科创板上市公司证券发行注册管理办法(试 行)》《上海证券交易所科创板上市公司证券发行上市审核规则》 等有关法律、法规及本所有关规定等,本所审核机构对沈阳芯源 微电子设备股份有限公司(以下简称发行人或公司)向特定对象 发行股票申请文件进行了审核,并形成了首轮问询问题。

  1. 关于高端晶圆处理设备产业化项目(二期)项目

IPO 招股说明书披露:通过IPO 募投项目项目之高端晶圆处 理设备产业化项目建设,公司形成高端晶圆处理设备(主要包括 8/12 英寸单晶圆前道涂胶/显影机和8/12 英寸前道单片式清洗

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机等产品)产业化规模生产能力。

募集说明书披露:(1)高端晶圆处理设备产业化项目原规划 地点拟进行地下铁路修建,不再具备进行募投项目建设的条件, 公司变更了该项目的实施地点,该项目的达到预定可使用状态时 间延期至2022 年6 月30 日;(2)本次再融资募投项目之高端晶 圆处理设备产业化项目(二期)本项目建成并达产后,主要用于 前道I-line 与KrF 光刻工艺涂胶显影机、前道Barc(抗反射层) 涂胶机以及后道先进封装Bumping 制备工艺涂胶显影机。

请发行人说明:(1)高端晶圆处理设备产业化项目与高端晶 圆处理设备产业化项目(二期)对应的涂胶/显影机技术规格、 应用领域及目标客户之间的关系;(2)除选址改变外,高端晶圆 处理设备产业化项目是否存在技术、生产设备、人员方面的实施 障碍,项目目前实施进展。

2. 关于上海临港研发及产业化项目

募集说明书披露:(1)公司正在进行本项目备案的相关准备 工作,将在取得土地使用权后办理项目投资备案;公司正在开展 环评相关工作,将于上述项目进入建设阶段前取得环评批复;(2) 本项目建成并达产后,主要用于研发与生产前道ArF 光刻工艺涂 胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高 端半导体专用设备。

请发行人说明:(1)本项目对应的前道ArF 光刻工艺涂胶显 影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机与高端晶圆处理设备产业化项 目及高端晶圆处理设备产业化项目(二期)对应涂胶/显影机产

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品在技术规格、应用领域及目标客户之间的关系;本项目对应的 单片式化学清洗机与高端晶圆处理设备产业化项目对应的清洗 机在技术规格、应用领域及目标客户之间的关系;(2)公司现有 涂胶/显影机、清洗机的产能、产能利用率和产销率情况,量化 分析IPO 募投项目和本次再融资项目持续新增涂胶/显影机、清 洗机产能的原因及合理性,结合行业发展情况、公司市场地位及 市场占有率、产能利用率/产销率及在手订单等情况分析IPO 募 投项目及再融资项目达产后的产能消化安排;(3)本项目对应土 地使用权、投资备案及环评进展情况,项目实施是否存在重大不 确定性。

3. 关于设备及材料供应

募集说明书披露:报告期内,公司以机械臂为代表的部分核 心零部件大部分采购自日本等国外核心供应商,上游核心供应商 的供货能力可能会在一定程度上约束公司的生产能力。

尽职调查报告显示:IPO 募投项目之高端晶圆处理设备研发 中心项目受到国外新冠疫情、中美贸易战等因素的影响,所需的 部分进口设备和材料无法正常、及时供应,该项目的设备采购以 及安装调试工作有所延缓,研发项目开展情况不及预期。

请发行人说明:(1)IPO 募投项目之高端晶圆处理设备研发 中心项目所需设备和材料进口进展情况及项目实施进度,是否符 合延期后的实施进展规划;(2)本次募投是否涉及核心零部件、 生产设备、原料/材料进口;若有,是否存在无法正常、及时供 应风险,以及公司保障进口的措施安排。

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4. 关于前次募集资金使用

发行人于2019 年12 月完成首次公开发行并上市,募集资金 净额为50,574.41 万元,其中超募资金12,795.44 万元,超募资 金本次拟用于永久补充流动资金的金额为3,830 万元,占超募资 金总额的比例为29.93%。截至2021 年3 月31 日, 募投项目累 计投入募集资金金额为13,264.26 万元(未包含超募资金使用)。 公司首次公开发行股票募集资金计划投入项目为“高端晶圆处理 设备产业化项目”及“高端晶圆处理设备研发中心项目”。该等 项目预计达到可使用状态日期为分别为2021 年6 月10 日及2020 年10 月10 日。截至本报告签署日,该等募投项目尚未达到可使 用状态,存在延期情形。“高端晶圆处理设备产业化项目”变更 了实施地点。

请发行人披露:(1)前募资金的后续使用计划及预期进度、 项目建设进展及后续建设情况;(2)前次募投项目与本次募投项 目的差异;(3)较大金额资金未使用情况下进行本次融资的必要 性及合理性。

请发行人说明:(1)截至最近一期期末,前募资金使用是否 达到30%比例;(2)超募资金的使用情况及使用计划,未使用超 募资金用于本次募投项目的原因。

请申报会计师核查并发表意见。

5. 关于本次募投投资金额

本次发行股票募集资金总额不超过 100,000.00 万元(含本 数),扣除发行费用后拟用于以下项目:

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序号 项目名称 项目投资总额(万元) 募集资金使用金额(万元)
1 上海临港研发及产业化项目 64,000.00
47,000.00
2 高端晶圆处理设备产业化项
目(二期)
28,939.27
23,000.00
3 补充流动资金 30,000.00
30,000.00
合计 122,939.27
100,000.00

请发行人说明:(1)上海临港研发及产业化项目和高端晶圆 处理设备产业化项目(二期)建设投资的具体投资数额的具体测 算依据和测算过程;(2)在前次募投项目延期的情况下进行本次 募投项目的必要性,对本次募投项目的影响;(3)结合使用前次 超募资金补充流动资金的情况,量化分析本次募投用于补充流动 资金规模的合理性及必要性;(4)明确使用募集资金的具体投资 明细,结合各募投项目中非资本性支出的情况,测算本次募投项 目中实质用于补充流动资金的具体金额,并论证补充流动资金的 比例是否超过募集资金总额的30%。

请申报会计师核查并发表明确意见。

6. 关于收益测算

依据申报材料,公司通过建设上海临港研发及产业化项目, 推出更高工艺等级的前道涂胶显影设备与清洗设备产品,形成前 道设备主打优势产品,预计税后内部收益率为15.81%,本次高 端晶圆处理设备产业化项目(二期)建成并达产后,主要用于前 道I-line 与KrF 光刻工艺涂胶显影机、前道Barc(抗反射层) 涂胶机以及后道先进封装Bumping 制备工艺涂胶显影机,税后内 部收益率为20.03%。

请发行人说明:本次各募投项目收益情况的具体测算过程、

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测算依据,分析引用的相关预测数据是否充分考虑供给增加后对 产品价格和毛利率的影响等因素。

请申报会计师核查并发表明确意见。

7. 关于财务性投资

请发行人说明:(1)自本次发行相关董事会决议日前六个月 起至本次发行前,公司实施或拟实施的财务性投资(包括类金融 投资)的具体情况;相关财务性投资金额是否已从本次募集资金 总额中扣除;(2)结合相关投资情况分析公司是否满足最近一期 不存在金额较大财务性投资的要求。

请申报会计师核查并发表明确意见。

请发行人区分“披露”及“说明”事项,披露内容除申请豁 免外,应增加至募集说明书中,说明内容是问询回复的内容,不 用增加在募集说明书中;涉及修改募集说明书等申请文件的,以 楷体加粗标明更新处,一并提交修改说明及差异对照表;请保荐 机构对发行人的回复内容逐项进行认真核查把关,并在发行人回 复之后写明“对本回复材料中的公司回复,本机构均已进行核查, 确认并保证其真实、完整、准确”的总体意见。

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上海证券交易所

二 〇 二一年九月三十日

主题词:科创板 再融资 问询函

上海证券交易所科创板上市审核中心 2021 年 09 月 30 日印发

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