DA Technology Co.,Ltd. — Regulatory Filings 2021

May 11, 2021

디에이테크놀로지/기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)/(2021.05.11)기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)

기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)

1. 특허명칭	이차전지의 셀 스택 및 그 적층 장치 및 방법
2. 특허 주요내용	회전판의 양측 각각에 2개의 분리막을 연결하고, 회전판을 180도씩 연속적으로 회전시키면서 2개의 분리막에 음극판 및 양극판을 동시에 전달하여 음극판과 분리막과 양극판을 교번으로 적층한 셀 스택(cell stack)을 제조할 수 있는 이차전지의 셀 스택 및 그 적층 장치 및 방법
3. 특허권자	(주)디에이테크놀로지
4. 특허취득일자	2021-05-11
5. 특허 활용계획	종래의 Z-스택킹 방식은 스테이지를 좌우로 직선 왕복 운동하면서 적층하기 때문에 스테이지의 이동 거리가 길어 작업 시간이 많이 소요되고, 이에 따라 생산성이 저하되는 문제가 발생함 본 특허는 상기의 문제를 해결하기 위한 것으로 2개의 분리막의 양측에서 복수의 음극판 및 양극판을 동시에 공급하여 적층함으로써 빠른 속도로 셀스택(cell stack)을 불량없이 적층할 수 있으며, 적층 속도를 기존보다 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 본 특허를 적용한 장비가 이차전지 생산공정에 적용될 경우 스태킹공정의 적층속도를 향상 시켜 생산 효율성을 더욱 높일 수 있을 것으로 기대됨
6. 확인일자	2021-05-11
7. 기타 투자판단에 참고할 사항	- 상기 특허는 국내 특허입니다.    (출원번호:10-2019-0044841 호) - 상기 특허취득일자는 특허등록료 납부일입니다.