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Regulatory Filings • Sep 17, 2020

디에이테크놀로지/기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)/(2020.09.17)기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)(전극의 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 이를 구비한 레이저 노칭 시스템)

기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)

1. 특허명칭	전극의 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 이를 구비한 레이저 노칭 시스템
2. 특허 주요내용	이차전지의 전극을 연속적으로 이송하면서 전극의 가장자리에 레이저를 지면(地面)에 대해 수평하게 조사하여 소정의 패턴으로 전극탭을 가공하는 레이저 노칭 시스템
3. 특허권자	(주)디에이테크놀로지
4. 특허취득일자	2020-09-17
5. 특허 활용계획	본 발명을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩과 분진을 하측으로 낙하시켜 공정 수행과 동시에 제거할 수 있어 스크랩 혹은 미세한 이물질들이 지그에 축적되지 않아 고정력을 저하시키지 않으며, 전극 필름 상에 레이저가 외란(disturbance)되어 전극탭의 형상이 정확하게 절삭되지 않는 문제를 해결할 수 있다. 또한 좌우로 분할된 드럼의 변부가 지그재그의 요철 구조로 되어 전극 면을 지지하는 구조로 전극 필름의 중심부가 변형되거나 자국이 생기지 않도록 안정적으로 지지하여 생산성을 향상 시킬 수 있을 것으로 기대된다.
6. 확인일자	2020-09-17
7. 기타 투자판단에 참고할 사항	- 상기 특허는 국내 특허입니다. (출원번호:10-2020-0094704호) - 상기 특허취득일자는 특허등록료 납부일입니다.