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해성디에스/신규시설투자등/(2021.09.15)신규시설투자등

신규 시설투자 등


1. 투자구분		시설증설
- 투자대상		반도체 Substrate(리드프레임, Package Substrate) 제조용 기계장치, 부대시설 등
2. 투자내역	투자금액(원)	50,000,000,000
자기자본(원)	231,838,784,802
자기자본대비(%)	21.57
대규모법인여부	미해당
3. 투자목적		시장 및 고객 수요 증가에 대응하기 위한 생산능력 확대
4. 투자기간	시작일	2021-09-15
종료일	2022-11-30
5. 이사회결의일(결정일)		2021-09-15
- 사외이사 참석여부	참석(명)	3
불참(명)	-
- 감사(사외이사가 아닌 감사위원) 참석여부		참석
6. 공시유보 관련내용	유보사유	-
유보기한	-
7. 기타 투자판단과 관련한 중요사항		- 상기 2항의 자기자본은 2020년말 연결재무제표 기준이며, 자기자본대비 비율은 소수점 이하 셋째자리를 반올림한 수치입니다. - 상기 4항의 투자기간 시작일은 이사회 결의일 기준이며, 종료일은 투자 완료로 예상되는 시점 기준입니다. - 상기 투자금액 및 투자기간은 투자 진행과정 및 경영환경의 변화 등에 따라 변동될 수 있습니다. - 상기 5항의 감사는 감사위원회 위원을 의미하며, 당사의 감사위원회는 전원 사외이사로 구성되어 있습니다. - 상기 투자와 관련하여 안전 및 환경 관련 승인 및 인가 등의 절차가 발생될 수 있습니다.
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